1. Einleitung.- 2. Stand der Technik.- 3. Aufqabenstellunq und Zielsetzung.- 4. Die Problematik bei der Verwendung von dosierten Fl?ssigkeitsvolumina zur Positionierung.- 5. Untersuchung eines nach dem Prinzip der leckfreien Volumenverdr?ngung gebauten Positioniersystems.- 5.1 Eigenschaften der Metallb?lge.- 5.2 Aufbau des Positioniersystems.- 5.3 Quasistatisches Verhalten des Positioniersystems.- 5.3.1 Allgemeines.- 5.3.2 Einflu? der Dr?cke pe und py auf das Positioniersystem.- 5.3.3 Einflu? des Raumdruckes pM und der Raumtemperatur ?M.- 5.4 Dynamisches Verhalten des Positioniersystems bei Bet?tigung jeweils eines einzigen Dosierelements.- 5.4.1 Allgemeines.- 5.4.2 ?bergangsverhalten.- 5.4.3 Schaltzeit.- 5.4.4 Positionsabweichung.- 5.5 Verhalten des Positioniersystems bei gleichzeitiger Bet?tigung mehrerer Dosierelemente.- 5.5.1 Allgemeines.- 5.5.2 Weg XW bei gleichzeitiger Bet?tigung mehrerer Dosierelemente.- 5.5.3 Arbeitsdiagramm.- 5.6 Kompensation des sch?dlichen Volumens des Positioniersystems.- 5.6.1 Allgemeines.- 5.6.2 Kompensation durch ?nderung der im Positioniersystem befindlichen Glyzerinmenge.- 5.6.3 Kompensation durch ?nderung des Druckes pe.- 5.6.4 Kompensation durch ?nderung des Druckes py.- 5.7 Untersuchung des geregelten Positioniersystems.- 5.7.1 Auswahl des Reglers.- 5.7.2 Einstellung eines Reglers.- 5.7.3 ?bergangsverhalten des geregelten Positioniersystems.- 5.7.4 Positionsabweichung.- 5.8 Lageregelkreis f?r das Positioniersystem.- 5.9 Schlu?betrachtung.- 6. Untersuchung eines nach dem Prinzip der leckbehafteten Volumenverdr?ngung gebauten Positioniersystems.- 6.1 Aufbau des Positioniersystems.- 6.2 Quasistatisches Verhalten des Positioniersystems.- 6.2.1 Allgemeines.- 6.2.2 Einflu? des Druckes p1.- 6.2.3 Einflu? des Druckes p4.- 6.2.4 Einflu? der Raumtemperatur ?M.- 6.3 Dynamisches Verhalten des Positioniersystems.- 6.3.1 Allgemeines.- 6.3.2 ?bergangsverhalten.- 6.3.3 Schaltzeit TS.- 6.3.4 Positionsabweichung ?M.- 6.3.5 Leckagen.- 6.3.5.1 AllgelóA