Untersuchungen von Reinheitssytemen zur Herstellung von Halbleiterprodukten [Paperback]

1 Einleitung.- 1.1 Problemstellung.- 1.2 Zielsetzung und Vorgehensweise.- 2 Stand der Technik.- 2.1 Begriffe und Definitionen.- 2.1.1 Produktionssystem f?r reine Anwendungen.- 2.1.2 Reinheit.- 2.1.3 Produktumgebung.- 2.1.4 Reinheitssystem.- 2.1.5 Standard Mechanical Interface (SMIF).- 2.2 Halbleiterfertigung.- 2.3 Eingesetzte Produktionssysteme f?r reine Anwendungen.- 2.4 ?berpr?fung der Partikelreinheit in der Produktumgebung.- 3 Analyse von Produktionssystemen f?r reine Anwendungen und Ableitung von Entwicklungsschwerpunkten.- 3.1 Analyse der Produktionsumgebung.- 3.2 Analyse der Fertigungsger?te und -anlagen.- 3.3 Analyse des Transportes zwischen den Fertigungsger?ten und -anlagen.- 3.4 Analyse der Qualifizierungsverfahren.- 3.5 Ableitung von Entwicklungsschwerpunkten.- 3.5.1 Anforderungen an ein Integrales Reinheitssystem.- 3.5.2 Anforderungen an Untersuchungsmethoden.- 3.5.3 Anforderungen an ein Qualifizierungsverfahren.- 4 Konzeption eines Integralen Reinheitssystems.- 4.1 Bewertung eingesetzter Reiner Produktionssysteme.- 4.2 Optimierungsans?tze.- 4.3 Varianten der Reinheitssysteme.- 5 Entwicklung eines Verfahrens zur Qualifizierung von Reinheitssystemen.- 5.1 Konzeption des Qualifizierungsverfahrens.- 5.2 Komponenten des Qualifizierungsverfahrens.- 5.2.1 Me?technik und Produktoberfl?chen.- 5.2.2 Untersuchungen zur ?berpr?fung der statistischen Randbedingungen.- 5.2.2.1 Eigenkontamination der Me?technik.- 5.2.2.2 Bestimmung der Verteilungsfunktion der Me?gr??en.- 5.2.3 Bestimmung der Genauigkeit der Me?technik.- 5.3 Entwicklung des Auswertealgorithmus.- 5.3.1 Soll-Genauigkeit des Qualifizierungswertes (PWP-Wert).- 5.3.2 Anwendung des Algorithmus.- 5.4 Entwicklung einer Qualifizierungsmethode.- 6 Entwicklung von Komponenten zur str?mungstechnischen Auslegung eines Integralen Reinheitssystems.- 6.1 Reinheitssystemgerechte Produkt?bergabe.- 6.1.1 Untersuchungen zur Festlegung der Durchstr?mrichtung.- 6.1.2 Untersuchungen zur Auswahl anwendbarer Gleichrl3-